تم في هذا العمل تحضير أفلام رقيقة متعددة الطبقات ( عازل - معدن - عازل ) على ركائز من الزجاج . حيث رسبنا الترتيب التالي من ( أكسيد الزنك - فضة - أكسيد الزنك ) بتقنية الترذيذ الماغنتروني لأكسيد الزنك وتقنية التبخير الحراري في الخلاء للفضة .
In this work, multi-layer thin films (insulator - metal - insulator) were prepared on glass substrates. Where we deposited the following order of (zinc oxide - silver - zinc oxide) by magnetron sputtering of zinc oxide and vacuum thermal evaporation technique for silver.
Artificial intelligence review:
Research summary
تم في هذا العمل تحضير أفلام رقيقة متعددة الطبقات (عازل/معدن/عازل) على ركائز زجاجية باستخدام تقنية الترذيذ الماغنتروني لأكسيد الزنك وتقنية التبخير الحراري في الخلاء للفضة. تم دراسة تأثير بلازمونات السطح في الفضة على الخصائص الضوئية والبنيوية للأفلام متعددة الطبقات (ZnO/Ag/ZnO). يمكن ضبط هذه الخصائص بواسطة تغيير سماكة طبقتي أكسيد الزنك. تم ترسيب طبقتي أكسيد الزنك بسماكة تتراوح من 30nm إلى 40nm وطبقة الفضة بسماكة 6nm، وأيضاً رسبت طبقتي أكسيد الزنك بسماكة تتراوح من 40nm إلى 50nm وطبقة الفضة الوسطى بسماكة 15nm. تم قياس الانعكاسية والنفوذية الضوئية بواسطة السبيكتروفوتومتر في المجال (100 nm). درس تأثير سماكة أكسيد الزنك على الخصائص الضوئية للأفلام الرقيقة متعددة الطبقات (ZnO/Ag/ZnO) وآلية التأثير بواسطة بلازمون السطح. حسبت الثوابت الضوئية (معامل الامتصاص، معامل التخامد، قرينة الانكسار، الجزئين الحقيقي والتخيلي لثابت العزل الكهربائي، الناقلية الضوئية). درست الخصائص البنيوية للأفلام بواسطة جهاز الانعراج بالأشعة السينية، حيث بينت نتائج دراسة الأفلام متعددة الطبقات (ZnO/Ag/ZnO) ذات السماكات المختلفة (35/6/35nm) و (40/6/40nm) أن المركب أكسيد الزنك للطبقة السطحية يملك بنية سداسية. وجد من طيف الانعراج بالأشعة السينية أن عرض منتصف القمة العظمى للمستوي (002) (0.00523Rad) عند زاوية الانعراج (34.28) تقريباً.
Critical review
تعد الدراسة المقدمة من الباحث عمر عثمان حمود العبوش حول الخصائص الضوئية والبنيوية لأفلام ZnO/Ag/ZnO الرقيقة ذات أهمية كبيرة في مجال الفيزياء التطبيقية والمواد الكثيفة. ومع ذلك، هناك بعض النقاط التي يمكن تحسينها في البحث. أولاً، كان من الممكن تقديم تحليل أعمق للنتائج التجريبية وربطها بشكل أوضح بالنظريات الفيزيائية المعروفة. ثانياً، لم يتم التطرق بشكل كافٍ إلى التطبيقات العملية المحتملة لهذه الأفلام في مجالات مثل الخلايا الشمسية أو أجهزة العرض. ثالثاً، كان من الممكن تحسين تنظيم البحث وتقديم الرسوم البيانية والجداول بشكل أكثر وضوحاً لتسهيل فهم النتائج. وأخيراً، كان من المفيد تضمين مقارنة مع دراسات سابقة بشكل أكثر تفصيلاً لتوضيح مدى التقدم الذي حققه هذا البحث مقارنة بالأعمال السابقة.
Questions related to the research
-
ما هي التقنية المستخدمة لترسيب طبقات أكسيد الزنك في الدراسة؟
تم استخدام تقنية الترذيذ الماغنتروني لترسيب طبقات أكسيد الزنك.
-
ما هو تأثير سماكة طبقتي أكسيد الزنك على الخصائص الضوئية للأفلام الرقيقة؟
يمكن ضبط الخصائص الضوئية للأفلام الرقيقة بواسطة تغيير سماكة طبقتي أكسيد الزنك، حيث تم ترسيب طبقتي أكسيد الزنك بسماكة تتراوح من 30nm إلى 40nm وطبقة الفضة بسماكة 6nm، وأيضاً رسبت طبقتي أكسيد الزنك بسماكة تتراوح من 40nm إلى 50nm وطبقة الفضة الوسطى بسماكة 15nm.
-
ما هي الأداة المستخدمة لقياس الانعكاسية والنفوذية الضوئية؟
تم قياس الانعكاسية والنفوذية الضوئية بواسطة السبيكتروفوتومتر في المجال (100 nm).
-
ما هي البنية البلورية التي تم العثور عليها لطبقة أكسيد الزنك السطحية؟
بينت نتائج الدراسة أن المركب أكسيد الزنك للطبقة السطحية يملك بنية سداسية.
References used
A.M.Bakry and S.A.Mahmoud , " Effect of substrate Temperature on the optical Dispersion of sprayed Nickel oxide thin films" , University of Hail, (2010)
In this paper we present the structural, optical and electrical characteristics of ZnO thin films grown for different parameters by the atomic layer deposition (ALD) method. The films were grown on glass and silicon substrates at low temperatures. We
In this research we present results of the studying and calculating the optically active
range depth for diffuse light reflected coating at change of the dispersiveness of pigment
grains used in coating and wavelength of incident electromagnetic ra
Mn doped tin oxide transparent conducting thin films were deposited at a
substrate temperature of 450°C by spray pyrolysis method. Structural
properties of the films were investigated as a function of various Mn-doping
levels (0, 1, 3, 5, 7 wt%) w
A study of surface chemical composition has been performed by using Auger Electron Spectroscopy (AES) for ZnO layers grown by Atomic Layer Deposition (ALD) procedure.Elements on surface of materials were identified,and, an atomic concentration of ele
Thick Films have been prepared by the chemical painting method from Tungsten Oxide nanopowdersas the source compound, which are prepared by milling in a high energy ball mill for variousspans of time (1-18h) on cleanedglasssubstratesunder limited the