Do you want to publish a course? Click here

Study of optical properties of zinc oxide/silver/zinc oxide thin layers

دراسة الخصائص الضوئية لطبقات رقيقة من أكسيد الزنك / فضة / أكسيد الزنك

923   1   0   0.0 ( 0 )
 Publication date 2018
  fields Physics
and research's language is العربية
 Created by Shamra Editor




Ask ChatGPT about the research

In this work, multi-layer thin films (insulator - metal - insulator) were prepared on glass substrates. Where we deposited the following order of (zinc oxide - silver - zinc oxide) by magnetron sputtering of zinc oxide and vacuum thermal evaporation technique for silver.


Artificial intelligence review:
Research summary
تم في هذا العمل تحضير أفلام رقيقة متعددة الطبقات (عازل/معدن/عازل) على ركائز زجاجية باستخدام تقنية الترذيذ الماغنتروني لأكسيد الزنك وتقنية التبخير الحراري في الخلاء للفضة. تم دراسة تأثير بلازمونات السطح في الفضة على الخصائص الضوئية والبنيوية للأفلام متعددة الطبقات (ZnO/Ag/ZnO). يمكن ضبط هذه الخصائص بواسطة تغيير سماكة طبقتي أكسيد الزنك. تم ترسيب طبقتي أكسيد الزنك بسماكة تتراوح من 30nm إلى 40nm وطبقة الفضة بسماكة 6nm، وأيضاً رسبت طبقتي أكسيد الزنك بسماكة تتراوح من 40nm إلى 50nm وطبقة الفضة الوسطى بسماكة 15nm. تم قياس الانعكاسية والنفوذية الضوئية بواسطة السبيكتروفوتومتر في المجال (100 nm). درس تأثير سماكة أكسيد الزنك على الخصائص الضوئية للأفلام الرقيقة متعددة الطبقات (ZnO/Ag/ZnO) وآلية التأثير بواسطة بلازمون السطح. حسبت الثوابت الضوئية (معامل الامتصاص، معامل التخامد، قرينة الانكسار، الجزئين الحقيقي والتخيلي لثابت العزل الكهربائي، الناقلية الضوئية). درست الخصائص البنيوية للأفلام بواسطة جهاز الانعراج بالأشعة السينية، حيث بينت نتائج دراسة الأفلام متعددة الطبقات (ZnO/Ag/ZnO) ذات السماكات المختلفة (35/6/35nm) و (40/6/40nm) أن المركب أكسيد الزنك للطبقة السطحية يملك بنية سداسية. وجد من طيف الانعراج بالأشعة السينية أن عرض منتصف القمة العظمى للمستوي (002) (0.00523Rad) عند زاوية الانعراج (34.28) تقريباً.
Critical review
تعد الدراسة المقدمة من الباحث عمر عثمان حمود العبوش حول الخصائص الضوئية والبنيوية لأفلام ZnO/Ag/ZnO الرقيقة ذات أهمية كبيرة في مجال الفيزياء التطبيقية والمواد الكثيفة. ومع ذلك، هناك بعض النقاط التي يمكن تحسينها في البحث. أولاً، كان من الممكن تقديم تحليل أعمق للنتائج التجريبية وربطها بشكل أوضح بالنظريات الفيزيائية المعروفة. ثانياً، لم يتم التطرق بشكل كافٍ إلى التطبيقات العملية المحتملة لهذه الأفلام في مجالات مثل الخلايا الشمسية أو أجهزة العرض. ثالثاً، كان من الممكن تحسين تنظيم البحث وتقديم الرسوم البيانية والجداول بشكل أكثر وضوحاً لتسهيل فهم النتائج. وأخيراً، كان من المفيد تضمين مقارنة مع دراسات سابقة بشكل أكثر تفصيلاً لتوضيح مدى التقدم الذي حققه هذا البحث مقارنة بالأعمال السابقة.
Questions related to the research
  1. ما هي التقنية المستخدمة لترسيب طبقات أكسيد الزنك في الدراسة؟

    تم استخدام تقنية الترذيذ الماغنتروني لترسيب طبقات أكسيد الزنك.

  2. ما هو تأثير سماكة طبقتي أكسيد الزنك على الخصائص الضوئية للأفلام الرقيقة؟

    يمكن ضبط الخصائص الضوئية للأفلام الرقيقة بواسطة تغيير سماكة طبقتي أكسيد الزنك، حيث تم ترسيب طبقتي أكسيد الزنك بسماكة تتراوح من 30nm إلى 40nm وطبقة الفضة بسماكة 6nm، وأيضاً رسبت طبقتي أكسيد الزنك بسماكة تتراوح من 40nm إلى 50nm وطبقة الفضة الوسطى بسماكة 15nm.

  3. ما هي الأداة المستخدمة لقياس الانعكاسية والنفوذية الضوئية؟

    تم قياس الانعكاسية والنفوذية الضوئية بواسطة السبيكتروفوتومتر في المجال (100 nm).

  4. ما هي البنية البلورية التي تم العثور عليها لطبقة أكسيد الزنك السطحية؟

    بينت نتائج الدراسة أن المركب أكسيد الزنك للطبقة السطحية يملك بنية سداسية.


References used
A.M.Bakry and S.A.Mahmoud , " Effect of substrate Temperature on the optical Dispersion of sprayed Nickel oxide thin films" , University of Hail, (2010)
rate research

Read More

In this paper we present the structural, optical and electrical characteristics of ZnO thin films grown for different parameters by the atomic layer deposition (ALD) method. The films were grown on glass and silicon substrates at low temperatures. We used diethyl-zinc (DEZn) and deionized water as zinc and an oxygen sources, respectively. Measurements of surface morphology, photoluminescence at room temperature (RT PL) and Hall Effect were made for ZnO layers. The films obtained at 130°C show the highest carrier concentration (1.1×1019 cm-3) and the lowest resistivity (2.84×10-2 Wcm). The films exhibit mobility up to 19.98 cm2/Vs that we associate to the technological process used.
In this research we present results of the studying and calculating the optically active range depth for diffuse light reflected coating at change of the dispersiveness of pigment grains used in coating and wavelength of incident electromagnetic ra diation. This coating consists of zinc oxide powder and organic material that acts as a binding film. The size of zinc oxide powder grains were changed between 0.2 μm and 10 μm. In addition, the depths of optically active range of diffuse light reflected coating were calculated when the absorption coefficient of the pigment used in the ZnO/binder coating changed between -1 0.1cm and -1 1000cm . The obtained results allow us optimization of the diffuse light reflecting coatings thickness at preparation determined kinds of them.
Mn doped tin oxide transparent conducting thin films were deposited at a substrate temperature of 450°C by spray pyrolysis method. Structural properties of the films were investigated as a function of various Mn-doping levels (0, 1, 3, 5, 7 wt%) w hile all other deposition parameters such as substrate temperature, spray rate, carrier gas pressure and distance between spray nozzle to substrate were kept constant.
A study of surface chemical composition has been performed by using Auger Electron Spectroscopy (AES) for ZnO layers grown by Atomic Layer Deposition (ALD) procedure.Elements on surface of materials were identified,and, an atomic concentration of ele ments on surface was determinate. Onlysmall amount of carbon or carbon compounds detected, easily removed by argon ion sputtering. Also, long argon ion sputtering partly depleted surface of oxygen.
Thick Films have been prepared by the chemical painting method from Tungsten Oxide nanopowdersas the source compound, which are prepared by milling in a high energy ball mill for variousspans of time (1-18h) on cleanedglasssubstratesunder limited the rmal conditions. The temperature of the films have been changed from 25°C to 350°C. The films have been investigated for their sensing properties relating to 100 ppm ethanol vapor adsorption, using the (I–V) characteristics.The activation energy Ea for deposition films is deduced from the Arrhenius equation. The effect of the grain size and the thermal conditions on the sensing properties of the WO3thick films to ethanol vapor adsorption, as well as the correlations between The electrical conductivity of the WO3 thick films and the grain size of the material films are reported.The response time for films which have particle size about 70.54nm is defined at 300°C.

suggested questions

comments
Fetching comments Fetching comments
mircosoft-partner

هل ترغب بارسال اشعارات عن اخر التحديثات في شمرا-اكاديميا