حُضِّرت وبنجاح أغشية رقيقة من أكسيد الزنك ZnO بسماكات مختلفة على ركائز زجاجية باستخدام طريقة السول – جل وذلك باستخدام خلات الزنك المائية كمصدر رئيسي لشوارد الزنك Zn+2. شُخصت مورفولوجيا السطح بواسطة مجهر القوة الذرية (AFM) ووصّفت الأغشية المحضرة بنيوياً بواسطة طيف انعراج الأشعة السينية (XRD) أما التحليل العنصري فقد تم بواسطة مطيافية تشتت الطاقة للأشعة السينية (EDX). كما دُرِست الخواص الضوئية للأغشية المحضرة بواسطة المطيافية الضوئية تحت الأحمر- المرئي - فوق البنفسجية UV – VIS – IR والتألق الضوئي (PL). أظهرت صور الـ AFM أن الأغشية المحضرة ناعمة ومتجانسة وخصوصاً في أجل السماكات العالية وأن الحبيبات الناتجة على السطح تأخذ شكل قضبان متقطعة متوسط قطرها يساوي 240nm. لوحظ عن طريق طيف الـ XRD أن التوجه البلوري السائد للغشاء المحضر هو (112) وأن ابعاد بلوراته يساوي 19nm، في حين أظهرت طيف الـ EDX أن التركيب العنصري لتلك الأغشية هو من أكسيد الزنك. من خلال المطيافية UV – VIS – IR تبين أن تلك الأغشية تملك نفاذية عالية في المجال المرئي كما حُسِبت قيمة الفجوة الطاقية المباشرة للأغشية المحضرة بدلالة السماكة والتي تراوحت بين (3.273 – 3.256 eV). لوحِظ من خلال مطيافية التألق الضوئي وجود قمة إصدار عند الطول الموجي 616nm هذا ما يرشحها لأن تكون وسط فعال لليزر العشوائي.
Thin films of ZnO were successfully prepared on glass substrates with different thicknesses by sol-gel method by using zinc acetate dehydrate as precursor. The surface of thin films morphology from were studied by AFM micrographs, the structural properties of the obtained ZnO thin film are studied using X-ray diffraction spectra and their elemental analysis by X-ray energy dispersion spectroscopy (EDX). Moreover, optical properties and emission of ZnO nano thin film were evaluate during ultraviolet-visible-infrared and photoluminescence spectra. The AFM investigations have revealed that the morphology of the films is smooth and homogeneous specially for the high thickness and the grains produced on the surface take the form of nano rods with an average diameter of 240nm. Structural analysis by X-ray diffraction showed that the deposited films have a preferred orientation along the direction (112) and are relatively uniform with average crystal size 19nm, while the EDX spectrum showed that the elemental composition of these films is zinc oxide. The spectrophotometer Ultraviolet -Visible confirms that it is possible to get good transparent ZnO films with a transmission of 77 to 92% in the infrared. The values of optical gaps Eg vary between 3.273 - 3.256 eV. The peak of photoluminescence exhibited a visible emission peak at 616nm that refers to possibility of using thin films as an effective medium of random laser.
In the present paper, we discuss the influence of point defects on electrical and
optical characteristics of ZnO thin films grown by the atomic layer deposition (ALD)
method on glass and silicon substrates at low temperature (100°C). Room temperatu
A study of surface chemical composition has been performed by using Auger Electron Spectroscopy (AES) for ZnO layers grown by Atomic Layer Deposition (ALD) procedure.Elements on surface of materials were identified,and, an atomic concentration of ele
The work could be considered as a continuous study of (XRL) X – ray luminescence - spectra of pure, and mixed Zno different AL ions, In these films and other crystals powders prepared by new developed te chnology.
We studied the pure and ZnO thin
There are wide uses of tin oxide thin films, especially in the field of
transparent conductors, solar cells, gas sensors and piezoelectric materials.
Laser deposition is considered one of the most important techniques followed to
obtain these film
This research was carried during the period of (2010-2013) to study the possibility of benefiting from the raw seaweeds residuse accumulated on the Syrian beach in obtaining an alternative substrates instead of the traditional one for using in