تم في هذا العمل تحضير أفلام رقيقة متعددة الطبقات ( عازل - معدن - عازل ) على ركائز من الزجاج . حيث رسبنا الترتيب التالي من ( أكسيد الزنك - فضة - أكسيد الزنك ) بتقنية الترذيذ الماغنتروني لأكسيد الزنك وتقنية التبخير الحراري في الخلاء للفضة .
In this work, multi-layer thin films (insulator - metal - insulator) were prepared on glass substrates. Where we deposited the following order of (zinc oxide - silver - zinc oxide) by magnetron sputtering of zinc oxide and vacuum thermal evaporation technique for silver.
المراجع المستخدمة
A.M.Bakry and S.A.Mahmoud , " Effect of substrate Temperature on the optical Dispersion of sprayed Nickel oxide thin films" , University of Hail, (2010)
نقدم في هذه الورقة الخصائص البنيوية و الضوئية و الكهربائية لأفلام رقيقة من أكسيد الزنك تمت تنميتها من أجل بارامترات مختلفة بوساطة طريقة الترسيب الذري الطبقي (ALD). و قد نميت هذه الأفلام على ركائز من الزجاج و السيلكون عند درجات حرارة منخفضة. استخدمنا
نعرض في هذا البحث نتائج دراسة و حساب عمق المجال النشط ضوئياً لغلاف عاكس لضوء بطريقة الانتثار تبعاً لتشتتية أو انتثارية حبيبات الصبغة المستعملة في الغلاف و لطول موجة الإشعاع الكهرطيسي الوارد عليه حيث تغيرت أبعاد حبيبات مسحوق أكسيد الزنك ضمن المجال من
رُسبت أفلام رقيقة ناقلة شفافة (TCOs) من أكسيد القصدير المُشاب بالمنغنيز عند درجة
حرارة ركيزة 450° C بطريقة البخ الحراري. تمت مُناقشة الخصائص البنيوية للأفلام بتابعية
سوية الإشابة لممنغنيز (0, 1 , 3 , 5 ,7 wt%) بينما جميع متغيرات الترسيب مثل: درج
أجريت دراسة التركيب الكيميائي السطحي بواسطة مطيافية إلكترون أوجيه (AES) لطبقات من أكسيد الزنك المنماة بطريقة الترسيب الذري الطبقي. و قد تم تحديد العناصر المتوافرة على سطوح المواد، و تعيين التركيز الذري للعناصر على السطوح. لوحظت كمية صغيرة فقط من الكر
حُضّرت أغشية سميكة بطريقة الطلاء الكيميائي من مساحيق أكسيد التنغستين النانوية مركب مصدر, بالطحن في مطحنة الكرات عالية الطاقة لفترات زمنية متعددة (1-18h) ، على ركائز زجاجية نظيفة تحتشر وطحرارية معينة (تم تغيير درجة الحرارة من 25°C إلى(350°C . دُرست ا