العيوب في الأفلام الرقيقة من النوع ZNO المنماة بطريقة الترسيب الذري الطبقي


الملخص بالعربية

نناقش في هذا البحث، تأثير العيوب النقطية على الخصائص الكهربائية و الضوئية لأفلام رقيقة من أكسيد الزنك تم تنميتها بطريقة الترسيب الذري الطبقي على ركائز من الزجاج و السيلكون عند درجة حرارة منخفضة (100°C). أنجزت قياسات أطياف التألق الضوئي عند درجة حرارة الغرفة، و الأطياف الكتلوية الأيونية الثانوية، و قياسات مفعول هول لطبقات من أكسيد الزنك. أجريت عملية التسخين عند درجة حرارة 400 °C لعينة ZnO المنماة على ركيزة من الزجاج في الهواء و في جو من الأزوت N2 لمدة نصف ساعة. إن التسخين الطويل يؤدي إلى اختزال كبير لتركيز الإلكترونات، و في نفس الوقت، نلاحظ زيادة واضحة في حركية حاملات الشحنة، الذي قد يؤدي إلى انخفاض عدد العيوب الأصلية في طبقات أكسيد الزنك. لوحظ أيضا أن ذرات الهيدروجين في عينات أكسيد الزنك لا تسيطر على الخصائص الكهربائية بازدياد تركيز الإلكترونات.

المراجع المستخدمة

CAN, M. MUSA; SHAH, S. ISMAT; DOTY, F.M; HAUGHN, R. C; FIRAT, T. Electrical and optical properties of point defects in ZnO thin films, J. Phys. D: Appl. Phys. 45, 2012, pp.1-11
ÖZGÜR, Ü; ALIVOV, YA. I.; LIU, C; TEKE, A; RESHCHIKOV, M. A; DOGAN, S; AVRUTIN, V; CHO, S.-J; MORKOÇ H. A comprehensive review of ZnO materials and devices, Journal of Applied Physics 98(4), 2005, p. 041301
KLINGSHIRN C. ZnO: from basics towards applications, Physica Status Solidi (b) 244(9), 2007, pp. 3027–3073

تحميل البحث